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半导体生产用纯水设备在运行过程中发现污染物该如何清洗

文章出处:EDI水处理编辑:EDI水处理发表时间:2020-02-05 16:52:04

  半导体生产用纯水设备是将原水经过精细过滤器,再通过泵加压,使较高浓度的水变为低浓度水,从而达到半导体生产用水标准。那么半导体生产用纯水设备在运行过程中发现污染物该如何清洗呢?

半导体生产用纯水设备在运行过程中发现污染物该如何清洗

  1、清水或气水混合物正向冲洗:

  出水以高速低压冲洗膜表面。水力剪切作用、减少膜面上的堵塞物,恢复透水量。

  2、清水或气水混合物反向冲洗:

  根据半导体生产用纯水设备堵塞的程度可选择不同的反冲压力流速和历时,对初期堵塞有效。

  3、水力输送海绵球去除软质堵塞物:

  其直径略大于膜管直径,在水压推动下流经堵塞的膜表面,进行强制性冲洗,适用于有机胶体为主的堵塞。

  以上就是小编为大家先容的全部内容,希翼对您有帮助。半导体生产用纯水设备常用的物理清洗技术方法,水力清洗着重去除可逆污染物和部分不可逆污染物。

  相关推荐:半导体行业超纯水设备的堵塞问题是怎么形成的

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